目前的兩種Low-E玻璃生產方法

在線高溫熱解沉積法：

在線高溫熱解沉積法"Low-E"玻璃在美國有多家公司的產品。如PPG公司的 Surgate200，福特公司的Sunglas H．R"P"。這些產品是在浮法玻璃冷卻工藝過程中完成的。液體金屬或金屬粉沫直接噴射到熱玻璃表面上，隨著玻璃的冷卻，金屬膜層成為玻璃的一部分 。因此，該膜層堅硬耐用。這種方法生產的"Low-E"玻璃具有許多優點：它可以熱彎，鋼化，不必在中空狀態下使用，可以長期儲存。它的缺點是熱學性能比較差 。除非膜層非常厚，否則其"u"值只是濺射法"Low-E"鍍膜玻璃的一半。如果想通過增加膜厚來改善其熱學性能，那么其透明性就非常差。

離線真空濺射法

離線法生產Low-E玻璃，是目前國際上普遍采用真空磁控濺射鍍膜技術。和高溫熱解沉積法不同，濺射法是離線的。且據玻璃傳輸位置的不同有水平及垂直之分。

濺射法工藝生產"Low-E"玻璃，需一層純銀薄膜作為功能膜。純銀膜在二層金屬氧化物膜之間。金屬氧化物膜對純銀膜提供保護，且作為膜層之間的中間層增加顏色的純度及光透射度。

垂直式生產工藝中，玻璃垂直放置在架子上，送入10-1帕數量級的真空環境中，通入適量的工藝氣體（惰性氣體Ar或反應氣體O2、N2），并保持真空度穩定。將靶材Ag、Si等嵌入陰極，并在與陰極垂直的水平方向置入磁場從而構成磁控靶。以磁控靶為陰極，加上直流或交流電源，在高電壓的作用下，工藝氣體發生電離，形成等離子體。其中，電子在電場和磁場的共同作用下，進行高速螺旋運動，碰撞氣體分子，產生更多的正離子和電子；正離子在電場的作用下，達到一定的能量后撞擊陰極靶材，被濺射出的靶材沉積在玻璃基片上形成薄膜。為了形成均勻一致的膜層，陰極靶靠近玻璃表面來回移動。為了取得多層膜，必須使用多個陰極，每一個陰極均是在玻璃表面來回移動，形成一定的膜厚。

水平法在很大程度上是和垂直法相似的。主要區別在玻璃的放置，玻璃由水平排列的輪子傳輸，通過陰極，玻璃通過一系列銷定閥門之后，真空度也隨之變化。當玻璃到達主要濺射室時，鍍膜壓力達到，金屬陰極靶固定，玻璃移動。在玻璃通過陰極過程中，膜層形成。

目前，國產和絕大部分進口磁控濺射鍍膜生產線的目標產品均是以鍍制單質膜和金屬膜為主的陽光控制膜玻璃。這類產品工藝相對簡單，對設備的要求較低。因此，這些生產線不能滿足鍍制LOW-E玻璃的要求。

濺射法生產"Low-E"玻璃，具有如下特點：

由于有多種金屬靶材選擇，及多種金屬靶材組合，因此，濺射法生產"Low-E"玻璃可有多種配置。在顏色及純度方面，濺射鍍也優于熱噴鍍，而且，由于是離線法，在新產品開發方面也較靈活 。最主要的優點還在于濺射生產的"Low-E"中空玻璃其"u"值優于熱解法產品的"u"值，但是它的缺點是氧化銀膜層非常脆弱，所以它不可能象普通玻璃一樣使用。它必須要做成中空玻璃，且在未做成中空產品以前，也不適宜長途運輸。